特許
J-GLOBAL ID：201303034998896908
四塩化チタン製造設備の整備方法および四塩化チタン製造設備
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
特許業務法人 森道雄特許事務所
, 森 道雄
, 松永 英幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-151054
公開番号（公開出願番号）：特開2013-063893
出願日： 2012年07月05日
公開日（公表日）： 2013年04月11日
要約：
【課題】機器内部に存在するTiCl4の大部分を排出でき、大気開放して整備する際に塩酸ガスが発生することによる作業環境の悪化および機器の腐食を低減できるTiCl4製造設備の整備方法およびTiCl4製造設備を提供する。【解決手段】流動層によって得られた粗TiCl4ガスを冷却して粗TiCl4液とし、この粗TiCl4液を蒸留工程で純TiCl4液とするTiCl4製造設備の整備方法であって、TiCl4製造設備が備える機器のうちで整備対象とした機器50の排出口からTiCl4液を減圧吸引した後に大気解放して整備することを特徴とする。TiCl4液を減圧吸引する際、TiCl4液回収容器40内のガスを排気することにより回収容器40内を減圧にし、この回収容器40を整備対象機器50と接続することにより整備対象機器50内のTiCl4液を減圧吸引し、回収されたTiCl4液を回収容器40内で気液分離するのが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
流動層によって得られた粗TiCl4ガスを冷却して粗TiCl4液とし、この粗TiCl4液を蒸留工程で純TiCl4液とするTiCl4製造設備を整備する方法であって、
TiCl4製造設備が備える機器のうちで整備対象とした機器の排出口からTiCl4液を減圧吸引した後に大気解放して整備することを特徴とするTiCl4製造設備の整備方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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