特許

J-GLOBAL ID：201303035317954464

グラフェン状物質の製造方法

発明者： 杉田 遼 ,  岸 直希 ,  曽我 哲夫 ,  神保 孝志
出願人/特許権者： 国立大学法人 名古屋工業大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-026761
公開番号（公開出願番号）：特開2013-163609
出願日： 2012年02月10日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：

【課題】汎用の単結晶基板に、公知のプラズマCVD法によりグラフェン状物質を形成する製造方法を提供する。【解決手段】基板を500〜1000°Cに加熱して、炭化水素を含むガスを導入してプラズマCVD法により前記基板上にグラフェン状物質を形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板を500〜1000°Cに加熱して、炭化水素を含むガスを導入してプラズマCVD法により前記基板上にグラフェン状物質を形成する、グラフェン状物質の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 31/02 ,  C23C 16/511 ,  C23C 16/26

FI (3件)：

C01B31/02 101Z ,  C23C16/511 ,  C23C16/26

Fターム (21件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146BA12 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146DA16 ,  4G146DA35 ,  4K030AA10 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030BB01 ,  4K030CA01 ,  4K030CA04 ,  4K030DA02 ,  4K030FA01