特許

J-GLOBAL ID：201303035519594699

レジスト保護膜材料及びパターン形成方法

発明者： 須賀 祐輝 ,  長谷川 幸士 ,  原田 裕次
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-219950
公開番号（公開出願番号）：特開2013-080103
出願日： 2011年10月04日
公開日（公表日）： 2013年05月02日
要約：

【解決手段】側鎖末端にヘキサフルオロヒドロキシプロピルカルボニルオキシ基を有する(メタ)アクリレート単位を含有し、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。【効果】上記レジスト保護膜材料は、高撥水性かつ高滑水性性能を有する。そのため水に対する良好なバリアー性能を有し、レジスト成分の水への溶出が抑えられる上、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィーを実現することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有し、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト保護膜材料。

IPC (4件)：

G03F 7/11 ,  G03F 7/38 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/11 501 ,  G03F7/38 501 ,  C08F20/26 ,  H01L21/30 575

Fターム (68件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH05 ,  2H125AH16 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ82Y ,  2H125AM22N ,  2H125AM23N ,  2H125AM27N ,  2H125AM57N ,  2H125AM91N ,  2H125AM94N ,  2H125AM99N ,  2H125AN11N ,  2H125AN31N ,  2H125AN31P ,  2H125AN39P ,  2H125AN51P ,  2H125AN62P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01N ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125DA03 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38 ,  5F146PA19