特許
J-GLOBAL ID：201303035547480682

液処理装置

発明者：
吉原 孝介

吉原 孝介 について

, 
吉田 勇一

吉田 勇一 について

, 
岡田 聡一郎

岡田 聡一郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  三井田 友昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-013136
公開番号（公開出願番号）：特開2013-153063
出願日： 2012年01月25日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
要約：
【課題】基板に対して処理液により処理するにあたり、基板上に処理液から持ち込まれる異物の量を抑えること。【解決手段】レジスト液をスピンチャック20上のウエハW上に展開しやすくするために、PGMEA等の溶剤を前もってウエハW上に塗布する。塗布する前に、溶剤供給源42から供出した溶剤を一旦蒸留タンク51に貯蔵した上で、溶剤を加熱部53で加熱し溶剤を気化させ、気化した溶剤を冷却器60にて冷却することで蒸留による精製を行い、溶剤中のパーティクルを除去する。精製した溶剤は貯溜タンク71に一旦貯留した上で、溶剤供給路74からスピンチャック20上の溶剤ノズル40へと供給する。そして溶剤ノズル40からウエハWへと、溶剤の吐出を行い、溶剤をウエハWに塗布する。また、蒸留タンク51を定期的に洗浄することで、溶剤中のパーティクル濃度の上昇を抑える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板保持部に水平に保持された基板に対して、処理液供給源から処理液ノズルを介して処理液を供給して液処理を行う装置において、 前記処理液供給源から供給された処理液を気化して蒸気を得るための気化部と、 前記気化部から得られた処理液の蒸気を冷却して液化するための冷却部と、 前記冷却部の冷却により得られた処理液を貯溜する貯溜タンクと、 前記貯溜タンク内の処理液を前記処理液ノズルに送り出すための送液機構と、を備えたことを特徴とする液処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  B05C 11/08
FI (4件)：
H01L21/30 564C ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 648F ,  B05C11/08
Fターム (30件)：
4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042CA01 ,  4F042CA08 ,  4F042CA09 ,  4F042CB03 ,  4F042CB10 ,  4F042CB20 ,  4F042CB25 ,  4F042CB26 ,  4F042CC30 ,  4F042DF32 ,  5F146JA01 ,  5F146JA09 ,  5F157AA88 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AC01 ,  5F157BB22 ,  5F157BC41 ,  5F157BD51 ,  5F157BD52 ,  5F157CC02 ,  5F157CF34 ,  5F157CF38 ,  5F157CF74 ,  5F157DB03 ,  5F157DB18 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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