特許
J-GLOBAL ID:201303035627514960
インク乾燥方法及びインク乾燥装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
高橋 勇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-023417
公開番号(公開出願番号):特開2013-177986
出願日: 2012年02月06日
公開日(公表日): 2013年09月09日
要約:
【課題】過熱乾燥蒸気をインク乾燥に最適な特性に改質することにより、基材に塗布したインクの乾燥時間を大幅に短縮させる。【解決手段】飽和水蒸気を加熱して乾燥させた過熱乾燥蒸気に噴射エネルギーを付与することにより、その過熱乾燥蒸気の粒子を微細化してクラスター化し、前記クラスター化した過熱乾燥蒸気に衝突エネルギーを付与することにより、前記クラスター化した過熱乾燥蒸気の粒子をさらに微細化してナノ化過熱乾燥蒸気を生成し、前記基材を設置したチャンバー内に前記ナノ化過熱乾燥蒸気を超過飽和状態で供給して前記チャンバー内に無酸素雰囲気を形成し、その無酸素雰囲気中にて前記ナノ化過熱乾燥蒸気を前記インクの分子及び分子界面に浸透させることにより、前記インクに前記ナノ化過熱乾燥蒸気のエネルギーを付与して、前記インクの水分蒸発及び有機溶剤の分解ないしは低減させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材に塗布したインクを乾燥させるインク乾燥方法において、
飽和水蒸気を加熱して乾燥させた過熱乾燥蒸気に噴射エネルギーを付与することにより、その過熱乾燥蒸気の粒子を微細化してクラスター化し、前記クラスター化した過熱乾燥蒸気に衝突エネルギーを付与することにより、前記クラスター化した過熱乾燥蒸気の粒子をさらに微細化してナノ化過熱乾燥蒸気を生成し、
前記基材を設置したチャンバー内に前記ナノ化過熱乾燥蒸気を超過飽和状態で供給して前記チャンバー内に無酸素雰囲気を形成し、その無酸素雰囲気中にて前記ナノ化過熱乾燥蒸気を前記インクの分子及び分子界面に浸透させることにより、前記インクに前記ナノ化過熱乾燥蒸気のエネルギーを付与して、前記インクの水分蒸発及び有機溶剤の分解ないしは低減させることを特徴とするインク乾燥方法。
IPC (3件):
F26B 21/00
, F26B 9/06
, B05C 9/14
FI (3件):
F26B21/00 P
, F26B9/06 A
, B05C9/14
Fターム (12件):
3L113AA01
, 3L113AB02
, 3L113AC05
, 3L113AC67
, 3L113BA34
, 3L113CB12
, 3L113DA02
, 3L113DA24
, 4F042AA06
, 4F042AB00
, 4F042DB01
, 4F042DB17
引用特許: