特許

J-GLOBAL ID：201303037145559625

重合体、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： 内海 義之 ,  太宰 尚宏
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-179004
公開番号（公開出願番号）：特開2013-040296
出願日： 2011年08月18日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：

【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生する、下記式で表されるアニオン部位を有し、かつ、露光により酸を発生する構成単位を有する重合体;該重合体を含有するレジスト組成物;及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、 露光により酸を発生する構成単位(a0)を有する重合体。

IPC (5件)：

C08F 20/38 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 4/04 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C08F20/38 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F4/04 ,  H01L21/30 502R

Fターム (46件)：

2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125EA01P ,  2H125FA03 ,  4J015AA01 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA56P ,  4J100BB12P ,  4J100BC09R ,  4J100BC84S ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA22 ,  4J100DA38 ,  4J100DA50 ,  4J100JA38