特許

J-GLOBAL ID：201303037428495054

露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光装置

発明者： 青木 保夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-091483
公開番号（公開出願番号）：特開2013-221961
出願日： 2012年04月13日
公開日（公表日）： 2013年10月28日
要約：

【課題】露光装置の小型化を図る。【解決手段】 露光動作は、基板Pの一部の領域(第1及び第2ショット領域SA1、SA2)に対してエネルギビームを用いてマスクパターンを転写することと、前記基板PをZ軸回りに回転させることと、前記基板Pの残りの領域(第3ショット領域SA3)に対してエネルギビームを用いてマスクパターンを転写することと、を含む。これによれば、基板PのXステップ動作が不要なので、基板PのX軸方向のストロークが短くて良く、基板ステージを小型化できる。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

物体保持部材上に載置された物体の第1の領域に対してエネルギビームを用いて所定のパターンを形成することと、 前記物体を該物体の表面に交差する軸回りに回転させることと、 前記物体の前記第1の領域とは異なる第2の領域に対してエネルギビームを用いて前記所定のパターンを形成することと、を含む露光方法。

IPC (3件)：

G03F 7/22 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/677

FI (4件)：

G03F7/22 Z ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 514A ,  H01L21/68 A

Fターム (30件)：

2H097BA10 ,  2H097EA11 ,  2H097GB02 ,  2H097LA12 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131BA13 ,  5F131CA38 ,  5F131DA02 ,  5F131DA09 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131DC19 ,  5F131EA02 ,  5F131EA12 ,  5F131EA22 ,  5F131EA23 ,  5F131EA24 ,  5F131EA25 ,  5F131EA27 ,  5F131EB01 ,  5F131FA17 ,  5F131KA16 ,  5F131KB32 ,  5F131KB53 ,  5F146BA05 ,  5F146CA02 ,  5F146CC01 ,  5F146CC14 ,  5F146CC17