特許

J-GLOBAL ID：201303038060412362

薄膜形成装置

発明者： 滝澤 一樹 ,  宮武 直正 ,  村田 和俊
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： グローバル・アイピー東京特許業務法人
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2011000957
公開番号（公開出願番号）：WO2011-108219
出願日： 2011年02月21日
公開日（公表日）： 2011年09月09日
要約：

基板に薄膜を形成する薄膜形成装置は、減圧状態で基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、前記成膜容器の前記成膜空間内に、薄膜用原料ガスを導入する原料ガス導入部と、前記成膜空間において、前記薄膜用原料ガスを用いてプラズマを生成させるプラズマ電極部と、を有する。前記プラズマ電極部は、電流が一方の端面から他方の端面に流れる、長尺状の板部材であって、前記板部材の長手方向の途中で屈曲して互いに並行する往路部分と復路部分を有する電極板を、プラズマ生成用電極として備える。

請求項（抜粋）：

基板に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、 減圧状態で基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、 前記成膜容器の前記成膜空間内に、薄膜用原料ガスを導入する原料ガス導入部と、 前記成膜空間において、前記薄膜用原料ガスを用いてプラズマを生成させるプラズマ電極部と、を有し、 前記プラズマ電極部は、電流が一方の端面から他方の端面に流れる板部材であって、前記板部材の電流の流れる方向が途中で屈曲して互いに並行する往路部分と復路部分を有する電極板を、プラズマ生成用電極として備える、ことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/507 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

H01L21/205 ,  C23C16/507 ,  H01L31/04 V

Fターム (21件)：

4K030AA06 ,  4K030CA06 ,  4K030FA04 ,  4K030JA01 ,  4K030KA30 ,  4K030LA16 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045AE13 ,  5F045AE15 ,  5F045AE17 ,  5F045AE19 ,  5F045AF07 ,  5F045CA13 ,  5F045DP04 ,  5F045EH13 ,  5F045EM10 ,  5F151AA05 ,  5F151CA15