有機EL素子及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-080873
公開番号（公開出願番号）：特開2013-084553
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年05月09日
要約：

【課題】画素内の平坦性を良好にし、局所的な発光材料への負荷を減らすことにより、より長寿命の有機EL素子及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る有機EL素子は、基材と、基材上に形成され、複数の画素の各々に対応する複数の区画を有する第一電極層と、第一電極層の区画の各々の周縁部を覆うように形成される第一隔壁と、第一電極層上に形成され、画素の各々に対応する複数のスルーホールが設けられる絶縁層と、絶縁層上に形成され、スルーホールの各々を介して第一電極層に電気的に接続される第二電極層と、第二電極層上に形成される有機発光媒体層と、有機発光媒体層上に形成される第三電極層と、第三電極層を覆う封止層とを備え、各画素内の第二電極層及び各画素内の有機発光媒体層が凹面形状を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の画素を有する有機EL素子であって、基材と、前記基材上に形成され、前記複数の画素の各々に対応する複数の区画を有する第一電極層と、前記第一電極層の前記区画の各々の周縁部を覆うように形成される第一隔壁と、前記第一電極層上に形成され、前記画素の各々に対応する複数のスルーホールが設けられる絶縁層と、前記絶縁層上に形成され、前記スルーホールの各々を介して前記第一電極層に電気的に接続される第二電極層と、前記第二電極層上に形成される有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層上に形成される第三電極層と、前記第三電極層を覆う封止層とを備え、各画素内の前記第二電極層及び各画素内の前記有機発光媒体層が凹面形状を有する、有機EL素子。

IPC (6件)：

H05B 33/22 , H01L 51/50 , H05B 33/04 , H05B 33/12 , H05B 33/10 , H05B 33/06

FI (6件)：

H05B33/22 Z , H05B33/14 A , H05B33/04 , H05B33/12 B , H05B33/10 , H05B33/06

Fターム (18件)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107BB02 , 3K107BB06 , 3K107CC07 , 3K107CC21 , 3K107CC29 , 3K107CC33 , 3K107CC45 , 3K107DD38 , 3K107DD39 , 3K107DD89 , 3K107DD90 , 3K107DD97 , 3K107EE07 , 3K107FF15 , 3K107GG06 , 3K107GG07

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