特許
J-GLOBAL ID:201303038325224024

露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-085437
公開番号(公開出願番号):特開2013-214028
出願日: 2012年04月04日
公開日(公表日): 2013年10月17日
要約:
【課題】基板の位置制御性が向上した基板ステージを提供する。【解決手段】 基板ステージ装置20は、スキャン方向であるX軸方向に移動可能なX粗動ステージ24と、X粗動ステージ24に設けられ、該X粗動ステージ24と共にスキャン方向に移動可能、且つ該X粗動ステージ24に対してクロススキャン方向であるY軸方向に移動可能なY粗動ステージ26と、基板Pを保持し、Y粗動ステージ26に誘導されてXY平面に沿って移動する微動ステージ28と、微動ステージ28を下方から支持し、該微動ステージ28と共に水平面に沿って移動する重量キャンセル装置30と、X軸方向に延び、重量キャンセル装置30のX軸方向への移動をガイドするYステップガイド32と、重量キャンセル装置30のY軸方向の位置に応じて、Yステップガイド32のY軸方向の位置を制御する位置制御系と、を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
露光処理時に露光用のエネルギビームに対して露光対象の物体を水平面に平行な二次元平面内の第1方向に沿って移動させる走査型の露光装置であって、 前記第1方向に沿った位置を移動可能な第1移動体と、 前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体と共に前記第1方向に沿った位置を移動可能、且つ前記第1移動体に対して前記二次元平面内で前記第1方向に直交する第2方向に沿った位置を移動可能な第2移動体と、 前記物体を保持し、前記第2移動体に誘導されて前記二次元平面に沿って移動する物体保持部材と、 前記物体保持部材を下方から支持し、前記物体保持部材と共に前記二次元平面に沿って移動する支持装置と、 前記第1方向に延び、前記支持装置の前記第1方向に沿った移動をガイドするガイド部材と、 前記支持装置の前記第2方向に沿った位置に応じて、前記ガイド部材を前記第2方向に関する位置を制御する位置制御系と、を備える露光装置。
IPC (3件):
G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68
FI (3件):
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 503A ,  H01L21/68 K
Fターム (17件):
2H097AB09 ,  2H097GB02 ,  2H097LA12 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131BA13 ,  5F131CA19 ,  5F131EA02 ,  5F131EA16 ,  5F131EA22 ,  5F131EA27 ,  5F131FA17 ,  5F131KA16 ,  5F131KB53 ,  5F146CC01 ,  5F146CC03 ,  5F146CC13

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