特許
J-GLOBAL ID:201303039077522184
イオン注入量制御装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
園田 吉隆
, 小林 義教
, 沖本 一暁
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-117972
公開番号(公開出願番号):特開2000-353671
特許番号:特許第4974402号
出願日: 2000年04月19日
公開日(公表日): 2000年12月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 イオン注入装置であって、
真空室と、
前記対象基板を支持する真空室内の基板ホルダと、
対象基板に注入する化学種のイオンのビームを発生するイオンビーム発生器と、
前記対象基板にイオンビームの相対的スキャン動作を実施するスキャン装置と、
注入中作動して真空室から残留気体を吸引する真空ポンプと、
真空室内の残留気体圧の変化を示す圧力信号を発生する残留気体圧検出器と、
注入中、ビームが前記対象基板に入射しない複数の期間によって分離される対象基板への反復ビームスキャンを行うよう配設されるスキャン装置であって、これにより、前記真空室内の残留気体圧は対象基板からの除ガスによって前記各スキャン時に上昇し、前記真空ポンプによる吸引によって前記分離期間中下降するスキャン装置と、
前記複数の各分離期間中対象基板でイオンビーム内のイオン電流量の多重隔時測定を行うイオン電流量検出器と、
前記多重測定値および残留気体圧の変化を示す前記圧力信号のデータを入力し、注入する化学種の粒子ビームの送達率を表す合計ビーム電流量の補正値を計算する演算装置とを備え、
前記分離期間中の残留気体圧Ptは、数式
(ここで、P0はt=0での圧力、τはポンプダウン時間定数)
によって時間tの関数となり、演算装置が前記圧力信号からτの値を決定し、多重値Iiを用いて定数b1、b2を消去する数式
(Iiは分離期間中の時間tiにおける測定イオンビーム電流量、b0=ln(I0))から真のビーム電流量(I0)を計算することによって前記補正値を計算するよう構成されたイオン注入装置。
IPC (2件):
H01L 21/265 ( 200 6.01)
, H01J 37/317 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 21/265 T
, H01J 37/317 C
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
特開昭61-016456
-
イオン照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-328701
出願人:日新電機株式会社
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特開平2-037657
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審査官引用 (6件)
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特開昭61-016456
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イオン照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-328701
出願人:日新電機株式会社
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特開平2-037657
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