特許
J-GLOBAL ID:201303039130455028

基材への塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 井上 茂 ,  森 和弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-269616
公開番号(公開出願番号):特開2013-119082
出願日: 2011年12月09日
公開日(公表日): 2013年06月17日
要約:
【課題】ロールコーターを用いて多層の塗布液を連続的に走行する基材に塗布する際に、高速に薄膜で美麗に塗布することができる基材への塗布方法を提供する。【解決手段】ダイコーターにより、回転するアプリケーターロールへ多層の塗布液を供給し、次いで、前記アプリケーターロールを連続的に走行する基材と接触させて前記多層の塗布液を基材へ転写する。この時、前記アプリケーターロールは、基材との接触部において基材と逆方向に回転し、前記ダイコーターにより供給する多層の塗布液は、前記アプリケーターロール上で最下層を形成する塗布液の粘性係数をμ1、上層を形成する塗布液の粘性係数μ2とした場合、μ1<μ2となる。また、基材に転写されず前記アプリケーターロールに残った多層の塗布液を前記アプリケーターロールから除去する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
ダイコーターにより、回転するアプリケーターロールへ多層の塗布液を供給し、 次いで、前記アプリケーターロールを連続的に走行する基材と接触させて前記多層の塗布液を基材へ転写するにあたり、 前記アプリケーターロールは、基材との接触部において基材と逆方向に回転し、 前記ダイコーターにより供給する多層の塗布液は、前記アプリケーターロール上で最下層を形成する塗布液の粘性係数をμ1、上層を形成する塗布液の粘性係数μ2とした場合、μ1<μ2であり、 基材に転写されず前記アプリケーターロールに残った多層の塗布液を前記アプリケーターロールから除去することを特徴とする基材への塗布方法。
IPC (2件):
B05D 1/28 ,  B05D 1/26
FI (2件):
B05D1/28 ,  B05D1/26 Z
Fターム (33件):
4D075AC02 ,  4D075AC23 ,  4D075AC26 ,  4D075AC93 ,  4D075AC94 ,  4D075AC96 ,  4D075BB14Y ,  4D075BB20Z ,  4D075CA13 ,  4D075CA23 ,  4D075CA32 ,  4D075CA33 ,  4D075DA03 ,  4D075DB01 ,  4D075DB31 ,  4D075DB61 ,  4D075DC08 ,  4D075DC10 ,  4D075DC11 ,  4D075EA05 ,  4D075EA07 ,  4D075EA10 ,  4D075EA17 ,  4D075EA19 ,  4D075EA21 ,  4D075EA41 ,  4F040AC01 ,  4F040BA24 ,  4F040CB03 ,  4F041CA02 ,  4F041CA13 ,  4F041CA15 ,  4F041CA22
引用特許:
審査官引用 (9件)
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