特許
J-GLOBAL ID：201303039311875177
電子線装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-100545
公開番号（公開出願番号）：特開2013-229190
出願日： 2012年04月26日
公開日（公表日）： 2013年11月07日
要約：
【課題】バイプリズムの影の影響を排除しつつ、コントラストの高い干渉電子顕微鏡を実現する。【解決手段】加速管39と照射レンズ系3、4との間に備えた第1の電子線バイプリズム12により第1の電子線7と第2の電子線8に分離し、試料6の位置する対物レンズ系の物面上において、互いに異なる第1の領域と第2の領域を照射すると共に、それぞれの電子線の電流密度及び、対物レンズ系の物面位置と第1バイプリズム12との距離を制御する事により、結像レンズ系に配置された第2の電子線バイプリズム10により結像レンズ系の観察面上11において形成される重畳領域を調整する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
電子線装置であって、
電子源と、
前記電子源から放出された電子を所定の速度からなる電子線とする加速管と、
前記電子線を試料に照射する照射レンズ系と、
前記試料を保持する試料保持部と、
前記試料の像を結像する、少なくとも1つの電子レンズからなる対物レンズ系と、
前記対物レンズ系により結像された前記試料の像を結像する結像レンズ系と、
前記結像レンズ系による前記試料の像を観察する観察面と、
前記観察面上に結像された前記試料の像を観察もしくは記録する観察記録系と、
前記加速管と前記照射レンズ系との間に設置され、前記電子線を第1の電子線と第2の電子線に分離する、第1の電子線バイプリズムと、
前記結像レンズ系に設置され、前記第1の電子線と前記第2の電子線とを前記観察面上において重畳する、少なくとも1つの電子線バイプリズムとを備え、
前記照射レンズ系の光学作用により、前記試料の位置する前記対物レンズ系の物面上における、前記第1の電子線と前記第2の電子線の電流密度と、
前記第1の電子線バイプリズムと前記試料の位置する前記対物レンズ系の物面との電子光学上の距離を制御し、
前記第1の電子線と前記第2の電子線それぞれが、前記対物レンズ系の物面上において互いに異なる第1の領域と第2の領域を照射し、
前記観察面上の前記第1の電子線と前記第2の電子線との重畳領域が前記観察記録系により観察もしくは記録される、
ことを特徴とする電子線装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
出願人引用 (1件)
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干渉装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-004156
出願人：独立行政法人理化学研究所
審査官引用 (1件)
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干渉装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-004156
出願人：独立行政法人理化学研究所
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