特許
J-GLOBAL ID：201303039430776705
パターン位相差フィルム、画像表示装置、パターン位相差フィルムの製造用金型及びパターン位相差フィルムの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
正林 真之
, 林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-115408
公開番号（公開出願番号）：特開2013-242424
出願日： 2012年05月21日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
【課題】パターン位相差フィルムを使用したパッシブ方式の画像表示装置において、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止する。【解決手段】透明フィルム材による基材2上に、配向膜3、位相差層4が順次設けられ、配向膜3の配向規制力により位相差層4で画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。位相差層4は、第1の方向に遅相軸を有する第1の領域Aと、第1の領域Aとは異なる第2の方向に遅相軸を有する第2の領域Bとが順次交互設けられ、第1及び第2の領域A及びBの間には、幅20μm以上、150μm以下の範囲で、第1及び又は第2の領域A及び又はBに向かうに従って、徐々に遅相軸の整列の程度が増大する未配向領域Cが設けられる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が順次設けられ、
前記配向膜の配向規制力により前記位相差層で画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与え、
前記位相差層は、
第1の方向に遅相軸を有する第1の領域と、前記第1の領域とは異なる第2の方向に遅相軸を有する第2の領域とが順次交互設けられ、
前記第1及び第2の領域の間には、幅20μm以上、150μm以下の範囲で、第1及び又は第2の領域に向かうに従って、徐々に前記遅相軸の整列の程度が増大する未配向領域が設けられた
パターン位相差フィルム。
IPC (3件)：
G02B 5/30
, G02F 1/133
, H04N 13/04
G02B5/30
, G02F1/13363
, H04N13/04
2H149AA20
, 2H149AB02
, 2H149BA01
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149FD48
, 2H191FA30X
, 2H191FB05
, 2H191FC10
, 2H191FC41
, 2H191LA40
, 2H191PA50
, 2H191PA59
, 5C061AA02
, 5C061AB18
