特許

J-GLOBAL ID：201303040006174426

ベータ型ゼオライト及びその製造方法

発明者： 板橋 慶治 ,  大久保 達也 ,  伊與木 健太
出願人/特許権者： 日本化学工業株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
代理人 (2件)： 羽鳥 修 ,  松嶋 善之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-048074
公開番号（公開出願番号）：特開2013-234109
出願日： 2013年03月11日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：

【課題】ミクロ孔及びメソ孔を併せ持ち、触媒や吸着剤等として有用なベータ型ゼオライトを提供すること。【解決手段】本発明のベータ型ゼオライトは、(i)SiO2/Al2O3比が8〜30であり、かつSiO2/ZnO比が8〜1000であり、(ii)ミクロ孔表面積が300〜800m2/gであり、(iii)ミクロ孔容積が0.1〜0.3cm3/gであり、(iv)合成したままの状態で直径が2〜6nmであり、その容積が0.001〜0.3cm3/gであるメソ孔を有することを特徴とする。このベータ型ゼオライトは、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源、及び水を含む反応混合物に、ジンコシリケートベータ型ゼオライトを種結晶として添加して反応させることで好適に製造される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

(i)SiO2/Al2O3比が8〜30であり、かつSiO2/ZnO比が8〜1000であり、 (ii)ミクロ孔表面積が300〜800m2/gであり、 (iii)ミクロ孔容積が0.1〜0.3cm3/gであり、 (iv)合成したままの状態で直径が2〜6nmであり、その容積が0.001〜0.3cm3/gであるメソ孔を有する、ことを特徴とするベータ型ゼオライト。

IPC (1件)：

C01B 39/46

FI (1件)：

C01B39/46

Fターム (26件)：

4G073BA02 ,  4G073BA03 ,  4G073BA04 ,  4G073BA52 ,  4G073BA57 ,  4G073BA63 ,  4G073BA75 ,  4G073BB04 ,  4G073BB48 ,  4G073BD21 ,  4G073CZ25 ,  4G073FA17 ,  4G073FC04 ,  4G073FC12 ,  4G073FC19 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073FD02 ,  4G073GA01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA12 ,  4G073GA13 ,  4G073GA14 ,  4G073UA01 ,  4G073UA05 ,  4G073UA06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• モレキュラーシーブCIT-6
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-556993   出願人：カリフォルニアインスティチュートオブテクノロジー
• 階層的多孔性を有する無定形ケイ素含有材料
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2010-523553   出願人：イエフペ

引用文献：

審査官引用 (1件)

• ゼオライト合成における最近の進歩 有機構造規定剤を用いない工業的価値の高いゼオライトの合成