特許

J-GLOBAL ID：201303040328648369

水処理方法及び水処理装置

発明者： 石川 智朗 ,  萩原 一穂 ,  山川 岳志 ,  恩田 建介
出願人/特許権者： 水ing株式会社
代理人 (1件)： 高木 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-217691
公開番号（公開出願番号）：特開2013-075271
出願日： 2011年09月30日
公開日（公表日）： 2013年04月25日
要約：

【課題】被処理水への適正な量の紫外線照射が安定して行え、ランプ寿命を長く保て、消費電力が少なく、設備の簡素化も図れ、破損しても有害な物質が流出しない水処理方法及び水処理装置を提供すること。【解決手段】流量が変動する被処理水に対して紫外線を照射することで被処理水中の有害成分を除去又は無害化する水処理方法である。紫外線を照射する紫外線光源としてエキシマランプ63を用いる。被処理水中に複数本のエキシマランプ63を設置しておき、変動する被処理水の流量に応じて、点灯するエキシマランプ63の本数を変更することで、エキシマランプ63による紫外線の被処理水への照射量を変更する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

流量が変動する被処理水に対して紫外線を照射することで前記被処理水中の有害成分を除去、又は無害化する水処理方法において、 前記紫外線を照射する紫外線光源としてエキシマランプを用い、変動する被処理水の流量又は水質の内の少なくとも変動する何れか一方に応じてエキシマランプによる紫外線の被処理水への照射量を変更することを特徴とする水処理方法。

IPC (1件)：

C02F 1/32

FI (1件)：

C02F1/32

Fターム (11件)：

4D037AA02 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037BB04 ,  4D037CA01 ,  4D037CA02 ,  4D037CA08 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12