特許
J-GLOBAL ID:201303040652091660
撮像装置、位置計測装置及び撮像方法、位置計測方法、並びに構造物の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-207751
公開番号(公開出願番号):特開2013-068541
出願日: 2011年09月22日
公開日(公表日): 2013年04月18日
要約:
【課題】CCDやCMOSセンサなどの撮像素子を用いた薄型の撮像装置が多く用いられており、位置計測対象を複数の撮像装置で撮像して所定の画像処理を施すことにより、位置計測対象の位置を計測している。この時、視野を広くしても、分解能の低下を抑制できる撮像装置、位置計測装置及び撮像方法並びに位置計測方法を提供する。【解決手段】視野V1〜V3の像を撮像する撮像素子2を備える。複数の視野の像を重ねて撮像素子に撮像可能とする像重ね部3を備える。前記像重ね部は、入射した光の少なくとも一部を前記撮像素子に入射させるビームスプリッターを有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
視野の像を撮像する撮像素子を備える撮像装置であって、
複数の前記視野の像を重ねて前記撮像素子に撮像可能とする像重ね部を備える撮像装置。
IPC (4件):
G01B 11/00
, G06T 1/00
, H04N 5/225
, H04N 5/335
FI (4件):
G01B11/00 H
, G06T1/00 300
, H04N5/225 C
, H04N5/335
Fターム (38件):
2F065AA07
, 2F065AA53
, 2F065BB13
, 2F065BB29
, 2F065CC17
, 2F065DD03
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065GG04
, 2F065HH05
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL11
, 2F065LL12
, 2F065LL30
, 2F065TT08
, 5B057AA01
, 5B057BA15
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5C024EX11
, 5C024EX41
, 5C024HX50
, 5C122DA13
, 5C122EA37
, 5C122FA02
, 5C122FB11
, 5C122FB15
, 5C122FC02
, 5C122FF10
, 5C122FK01
, 5C122HA86
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