特許

J-GLOBAL ID：201303041953784692

露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法

発明者： 釜石 孝生
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-043319
公開番号（公開出願番号）：特開2013-178445
出願日： 2012年02月29日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
要約：

【課題】光ビーム照射装置から照射された光ビームの強度分布を精度良く検出する。【解決手段】光ビーム照射装置20から照射される光ビームの一部を遮光する測定具50を、光ビーム照射装置20から照射された光ビームの照射領域26aで移動しながら、光ビーム照射装置20から照射されて測定具50により一部が遮光された光ビームを受光して、受光した光ビーム全体の強度を検出する。受光した光ビーム全体の強度の測定具の移動に伴う変化から、測定具50により遮光された光ビームの強度とその位置とを検出して、光ビームの強度分布を検出し、検出結果に基づき、光ビームの強度分布のばらつきを補正する。【選択図】図12

請求項（抜粋）：

フォトレジストが塗布された基板を支持するチャックと、 光ビームを変調する空間的光変調器、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系を有する光ビーム照射装置と、 前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動する移動手段とを備え、 前記移動手段により前記チャックと前記光ビーム照射装置とを相対的に移動し、前記光ビーム照射装置からの光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する露光装置であって、 前記光ビーム照射装置から照射された光ビームの一部を遮光しながら、前記光ビーム照射装置から照射された光ビームの照射領域を移動する測定具と、 前記光ビーム照射装置から照射されて前記測定具により一部が遮光された光ビームを受光して、受光した光ビーム全体の強度を検出する検出装置とを備え、 前記検出装置により受光した光ビーム全体の強度の前記測定具の移動に伴う変化から、前記測定具により遮光された光ビームの強度とその位置とを検出して、光ビームの強度分布を検出し、検出結果に基づき、光ビームの強度分布のばらつきを補正したことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/13

FI (3件)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 529 ,  G02F1/13 101

Fターム (12件)：

2H088FA18 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H097AA03 ,  2H097BB01 ,  2H097CA17 ,  2H097LA12 ,  5F146BA07 ,  5F146DA01 ,  5F146DA02 ,  5F146DB01