特許

J-GLOBAL ID：201303042904881433

面位置計測装置、露光装置、およびデバイス製造方法

発明者： 長山 匡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-086508
公開番号（公開出願番号）：特開2013-236074
出願日： 2013年04月17日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：

【課題】 雰囲気揺らぎの影響を小さく抑えて、被検面の面位置を高精度に検出する。【解決手段】 主面上または該主面の近傍に位置する被検面に第1測定ビームを斜め方向から投射し被検面で反射した第1測定ビームを受光して、第1測定ビームが照射される第1計測領域の面位置を検出する第1面位置計測系と、被検面に第2測定ビームを斜め方向から投射し被検面で反射した第2測定ビームを受光して、第2測定ビームが照射される第2計測領域の面位置を検出する第2面位置計測系とを備える。第1測定ビームが主面上で占める領域である第1領域と、第2測定ビームが主面上で占める領域である第2領域とは、主面上における第1方向に沿って位置し、主面上において第1方向と直交する方向を第2方向とするとき、第1領域の第2方向への射影の一部と、第2領域の第2方向への射影の一部とが互いに重複する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

物体の表面の高さ位置を計測する面位置計測装置において、 前記物体上に設定されて第1方向に長手方向を持つ計測範囲内に、該第1方向と交差する方向または平行な方向である第2方向に長手方向を持つ複数の計測領域を形成する複数の面位置計測系を備え、 前記複数の面位置計測系のそれぞれは、前記計測領域内に設定された複数の検出点における前記表面の高さ位置を計測し、 前記計測範囲の前記第1方向の長さは、前記物体の前記第1方向の長さ以上であることを特徴とする面位置計測装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/02 ,  G01B 11/00

FI (3件)：

H01L21/30 526B ,  G03F9/02 ,  G01B11/00 H

Fターム (42件)：

2F065AA02 ,  2F065AA24 ,  2F065CC20 ,  2F065DD04 ,  2F065EE03 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065FF10 ,  2F065FF51 ,  2F065GG02 ,  2F065GG07 ,  2F065GG16 ,  2F065GG23 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL01 ,  2F065LL22 ,  2F065LL28 ,  2F065LL31 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL62 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ33 ,  2H097GB01 ,  2H097GB02 ,  2H097GB03 ,  2H097KA38 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146DA14 ,  5F146DB05 ,  5F146DB08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第6,897,462号明細書