特許

J-GLOBAL ID：201303043158286628

感活性光線性又は感放射線性組成物、及び、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、並びに、樹脂

発明者： 横川 夏海 ,  川端 健志 ,  滝沢 裕雄 ,  椿 英明 ,  平野 修史
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-261119
公開番号（公開出願番号）：特開2013-137537
出願日： 2012年11月29日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：

【課題】高解像性(高解像力等)、高感度、良好なパターン形状、及び、良好な露光ラチチュード(EL)、を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性組成物、及び、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、並びに、樹脂を提供する。【解決手段】フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水素原子が下記一般式(1)で表される基によって置換されている基とを有する化合物(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性組成物、及び、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、並びに、樹脂。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

フェノール性水酸基と、フェノール性水酸基における水素原子が下記一般式(1)で表される基によって置換されている基とを有する化合物(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  C08F 22/20 ,  C08F 12/24 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F22/20 ,  C08F12/24 ,  H01L21/30 502R

Fターム (80件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH07 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ02X ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42X ,  2H125AJ43X ,  2H125AJ45X ,  2H125AJ45Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ65Y ,  2H125AL02 ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AL17 ,  2H125AL19 ,  2H125AM86P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA55R ,  4J100BA56R ,  4J100BB07R ,  4J100BB12R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC48Q ,  4J100BC49R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-042589   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-190109   出願人：富士フイルム株式会社
• 電気泳動装置用化学増幅ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-236260   出願人：協和発酵ケミカル株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-147140   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (4件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-042589   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-190109   出願人：富士フイルム株式会社
• 電気泳動装置用化学増幅ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-236260   出願人：協和発酵ケミカル株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-147140   出願人：信越化学工業株式会社