インドール誘導体とその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-003905
公開番号（公開出願番号）：特開2013-142080
出願日： 2012年01月12日
公開日（公表日）： 2013年07月22日
要約：

【課題】インドール誘導体及びその製造方法の提供。【解決手段】下式(2)で示されるインドール誘導体。(上記式中R1及びR2は、それぞれ、水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル基、トシル基、メシル基、アセチル基、ベンヅイル基、メトキシメチル基、2-メトキシエトキシメチル基、2-(トリメチルシリル)エトキシメチル基、又はアリルオキシカルボニル基を、また、X及びYは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル基、ハロゲン、アルコキシ、アミノ、アシル基、又はニトロ基を表す)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示される配位子を金属に配位させた触媒を用いて下記式(2)で示されるインドール誘導体を製造する方法。

IPC (1件)：

C07D 209/34

FI (1件)：

C07D209/34

Fターム (10件)：

4C204AB01 , 4C204BB04 , 4C204CB03 , 4C204DB13 , 4C204DB30 , 4C204EB03 , 4C204FB03 , 4C204GB01 , 4H039CA42 , 4H039CF10

前のページに戻る