特許
J-GLOBAL ID:201303043765792850
トランジスタ及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
家入 健
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-117354
公開番号(公開出願番号):特開2013-247127
出願日: 2012年05月23日
公開日(公表日): 2013年12月09日
要約:
【課題】トランジスタの閾値電圧のばらつきを低減すること。【解決手段】ソース領域と、ドレイン領域と、ソース領域と、ドレイン領域との間において、チャネル長方向に延設されるとともに、チャネル幅方向に並んだ複数のトレンチと、各トレンチの側面上に形成されたエピタキシャル層と、エピタキシャル層を覆うゲート酸化膜と、ゲート酸化膜上を覆うとともに、前記複数のトレンチに埋め込まれたゲート電極とを備えたトランジスタ。【選択図】図2C
請求項(抜粋):
ソース領域と、
ドレイン領域と、
前記ソース領域と、前記ドレイン領域との間において、チャネル長方向に延設されるとともに、チャネル幅方向に並設された複数のトレンチと、
前記複数のトレンチの側面上に形成されたエピタキシャル層と、
前記エピタキシャル層を覆うゲート酸化膜と、
前記ゲート酸化膜上を覆うとともに、前記複数のトレンチに埋め込まれたゲート電極とを備えたトランジスタ。
IPC (4件):
H01L 21/336
, H01L 29/78
, H01L 21/823
, H01L 27/092
FI (3件):
H01L29/78 301H
, H01L27/08 321C
, H01L29/78 301V
Fターム (61件):
5F048AA07
, 5F048AB10
, 5F048AC03
, 5F048BA01
, 5F048BA14
, 5F048BB01
, 5F048BB06
, 5F048BB07
, 5F048BB14
, 5F048BB19
, 5F048BC07
, 5F048BD01
, 5F048BD02
, 5F048BD06
, 5F048BD09
, 5F048BE03
, 5F048BF02
, 5F048BF07
, 5F048BF16
, 5F048BG13
, 5F048DA25
, 5F048DA27
, 5F140AA06
, 5F140AA24
, 5F140AB03
, 5F140BA01
, 5F140BA02
, 5F140BA06
, 5F140BB05
, 5F140BB06
, 5F140BC11
, 5F140BC12
, 5F140BC15
, 5F140BE01
, 5F140BE03
, 5F140BE10
, 5F140BF01
, 5F140BF04
, 5F140BF42
, 5F140BF43
, 5F140BG08
, 5F140BG12
, 5F140BG14
, 5F140BG28
, 5F140BG32
, 5F140BG37
, 5F140BG52
, 5F140BG53
, 5F140BH17
, 5F140BH49
, 5F140BJ01
, 5F140BJ07
, 5F140BJ27
, 5F140BK02
, 5F140BK13
, 5F140BK21
, 5F140BK25
, 5F140CA03
, 5F140CB04
, 5F140CB08
, 5F140CC03
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-076376
出願人:セイコーインスツル株式会社
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-215596
出願人:株式会社東芝
-
半導体素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-194452
出願人:現代電子産業株式会社
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審査官引用 (8件)
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-076376
出願人:セイコーインスツル株式会社
-
半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-215596
出願人:株式会社東芝
-
半導体素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-194452
出願人:現代電子産業株式会社
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