特許
J-GLOBAL ID：201303043813354429
高温処理によってホウ素含有粉末から有機汚染物質を除去する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
荒川 聡志
, 小倉 博
, 黒川 俊久
, 田中 拓人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-005857
公開番号（公開出願番号）：特開2013-147419
出願日： 2013年01月17日
公開日（公表日）： 2013年08月01日
要約：
【課題】高温処理によってホウ素含有粉末から有機汚染物質を除去する方法を提供する。【解決手段】汚染ホウ素粉末から有機汚染物質を除去する方法は、有機汚染物質と混ざり合ったホウ素粉末である汚染ホウ素粉末を提供するステップを含む。方法はまた、汚染ホウ素粉末を不活性容器に載せるステップと、不活性容器および汚染ホウ素粉末を密閉空間に入れるステップとを含む。密閉空間環境は酸欠雰囲気を作り出すように変えられる。汚染ホウ素粉末を高温まで加熱する熱源が提供される。方法は、ホウ素粉末と混ざり合った有機汚染物質の量を低減するように、有機汚染物質を蒸発させるステップを含む。別の方法は、ホウ素粉末と混ざり合った有機汚染物質の量を約0.1重量%以下の可溶性残留物まで低減するステップを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機汚染物質と混ざり合ったホウ素粉末の状態の汚染ホウ素粉末を提供するステップと、
前記汚染ホウ素粉末を不活性容器に載せるステップと、
前記不活性容器および前記汚染ホウ素粉末を密閉空間に入れるステップと、
前記密閉空間内に酸欠雰囲気を作り出すように前記密閉空間の環境を変えるステップと、
前記密閉空間に熱源を提供するステップと、
前記汚染ホウ素粉末を高温まで加熱するステップと、
前記ホウ素粉末と混ざり合った前記有機汚染物質の量を低減するように、前記汚染物質を蒸発させるステップとを含む、汚染ホウ素粉末から汚染物質を除去する方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
