特許
J-GLOBAL ID:201303043972713910

ネイルプリント装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人光陽国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-157600
公開番号(公開出願番号):特開2013-022114
出願日: 2011年07月19日
公開日(公表日): 2013年02月04日
要約:
【課題】印刷指を所定位置に保持しておくことが容易で、且つ、非印刷指に過度な負担が作用しないネイルプリント装置を提供すること。 【解決手段】ネイルプリント装置1において、印刷指位置決め部22で印刷指U1の指先部を所定の位置に保持し、印刷指位置決め部22の下方位置に設けられた非印刷指受入部24で非印刷指U2を伸ばしたままの状態で受け入れるように構成されると共に、印刷関連保守手段50を、印刷指位置決め部22が設けられている位置と同じ高さ位置で、且つ、非印刷指受入部24と対向する位置に配置させた。これによって、装置全体の大幅な小型化を図ることができ、小型化の分だけ軽量化を図ることができる。その上、印刷指U1を所定の位置に確実に保持した状態で、印刷指U1の爪部にネイル印刷を確実に施すことができる一方、非印刷指U2を楽な状態で入れることができ、自然な指の状態でネイル印刷を行うことができる。【選択図】図6
請求項(抜粋):
手の一部の指を印刷指として当該印刷指の爪部にネイル印刷を施すネイルプリント装置において、 印刷指を受け入れて当該印刷指の指先部を所定の位置に保持する印刷指位置決め部と、 前記印刷指位置決め部の下方位置に設けられ、印刷指に係る手における非印刷指を伸ばしたままの状態で受入可能に構成された非印刷指受入部と、 前記印刷指位置決め部が設けられている位置と同じ高さ位置で、且つ、前記非印刷指受入部の上方となる位置に配置された印刷関連保守手段と、 を備えていることを特徴とするネイルプリント装置。
IPC (2件):
A45D 29/00 ,  A45D 29/22
FI (2件):
A45D29/00 ,  A45D29/22
引用特許:
審査官引用 (3件)

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