スピンコート法によるレジスト塗布方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本洋一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-129924
公開番号（公開出願番号）：特開2012-256780
出願日： 2011年06月10日
公開日（公表日）： 2012年12月27日
要約：

【課題】鋭利な端部形状を有するウェハーの面に、その端部に面取り加工などの追加加工を施さないで、ウェハーの最外周部までレジストの未塗布部や極めて薄い部分を発生させることなくレジストを塗布することができる、スピンコート法によるレジスト塗布方法を提供する。【解決手段】通常のレジスト塗布のための回転ステップに続けて、その回転数および回転時間として、回転停止時のウェハー最外周部のレジスト厚を所望値以上に維持できる遠心力を最外周部レジストに発生させるための回転数および回転停止時のウェハー最外周部のレジスト厚を所望値以上に維持できる最外周部レジストの乾燥状態を得るための回転時間であり且つ紐状レジスト汚染を発生させない回転数および回転時間を有する回転ステップを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

鋭利な端面形状を有するウェハーの面にレジスト膜を塗布するためのスピンコート法によるレジスト塗布方法であって、レジスト塗布時のウェハーの回転ステップとして、ウェハー面に滴下したレジストをウェハー全面に行き渡らせるための回転ステップおよびレジスト膜厚を制御し且つ余剰レジストを振り切るための回転ステップに続いて、その回転数および回転時間として、回転停止時のウェハーの最外周部のレジスト厚を所望値以上に維持するのに必要な遠心力をウェハーの最外周部のレジストに発生させるための回転数および回転停止時のウェハーの最外周部のレジスト厚を所望値以上に維持するのに必要な乾燥状態までウェハーの最外周部のレジストを乾燥させるための回転時間であり且つウェハーの最外周部から紐状レジストを飛散させたりウェハーの最外周部に紐状レジストを発生させたりすることのない回転数および回転時間を有するウェハー最外周部レジスト膜厚確保回転ステップを有する、ことを特徴とするスピンコート法によるレジスト塗布方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B05D 1/40

FI (2件)：

H01L21/30 564D , B05D1/40 A

Fターム (22件)：

4D075AC64 , 4D075AC65 , 4D075AC92 , 4D075AC94 , 4D075BB02X , 4D075BB14Z , 4D075BB60Z , 4D075CA47 , 4D075CA48 , 4D075DA06 , 4D075DA08 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EA07 , 4D075EA15 , 4D075EB11 , 4D075EB31 , 5F146JA13 , 5F146JA20 , 5F146JA22 , 5F146JA24

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