特許
J-GLOBAL ID：201303045267886247

自己組織化構造、その製造方法、およびそれを含む物品

発明者：
ピーター・トレフォナス・ザ・サード

ピーター・トレフォナス・ザ・サード について

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シー-ウェイ・チャン

シー-ウェイ・チャン について

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フィリップ・デネ・フスタッド

フィリップ・デネ・フスタッド について

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エリン・ベス・フォーゲル

エリン・ベス・フォーゲル について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について

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ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-022794
公開番号（公開出願番号）：特開2013-166934
出願日： 2013年02月08日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：
【課題】ラメラまたはシリンダの長手方向軸が、自己組織化構造が配置される表面に対して平行または垂直である、ラメラまたはシリンダを有する自己組織化構造を提供する。【解決手段】基体の表面上に配置されたランダムコポリマーを有する基体の表面上に、シロキサン含有ブロックおよびシロキサン非含有ブロックを含むブロックコポリマーを配置し、前記ランダムコポリマーが15〜400ミリニュートン/メートルの全表面エネルギーを有し、かつフッ素原子を含む少なくとも1種の置換基を含んでおり、前記ブロックコポリマーをアニーリングして、シロキサン含有ブロックを含む領域を、シロキサン非含有ブロックを含む領域から相分離させ、並びに、前記シロキサン含有ブロックまたは前記シロキサン非含有ブロックを含む領域のいずれかを選択的に除去するように前記ブロックコポリマーをエッチングすることを含む、パターンを形成する方法。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
式(1)
IPC (3件)：
C08F 220/02 ,  C08J 7/02 ,  C08F 220/22
FI (3件)：
C08F220/02 ,  C08J7/02 A ,  C08F220/22
Fターム (30件)：
4F073AA21 ,  4F073AA28 ,  4F073AA29 ,  4F073AA32 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073BA33 ,  4F073BA34 ,  4F073BB01 ,  4F073DA01 ,  4F073DA05 ,  4F073GA01 ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL02P ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA36 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA15
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特開平3-281509
  • 特開昭60-260038
  • 特許第7521090号
審査官引用 (3件)
  • 特開平3-281509
  • 特開昭60-260038
  • 特許第7521090号
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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