特許
J-GLOBAL ID:201303045320902535

光拡散素子および光拡散素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 籾井 孝文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-064148
公開番号(公開出願番号):特開2013-195813
出願日: 2012年03月21日
公開日(公表日): 2013年09月30日
要約:
【課題】ヘイズ値が高く、強い拡散性を有し、かつ、表面が平滑で後方散乱が抑制された光拡散素子を提供すること。【解決手段】本発明の光拡散素子は、樹脂成分および超微粒子成分を含むマトリクスと、該マトリクス中に分散された光拡散性微粒子とを有する光拡散素子であって、該樹脂成分の一部が光拡散性微粒子に浸透し、該光拡散性微粒子中の樹脂成分の浸透範囲が、拡散素子中の光拡散性微粒子の平均粒径に対して、90%以上であり、算術平均表面粗さRaが、0.04mm以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
樹脂成分および超微粒子成分を含むマトリクスと、該マトリクス中に分散された光拡散性微粒子とを有する光拡散素子であって、 該樹脂成分の一部が光拡散性微粒子に浸透し、該光拡散性微粒子中の樹脂成分の浸透範囲が、拡散素子中の光拡散性微粒子の平均粒径に対して、90%以上であり、 算術平均表面粗さRaが、0.04mm以下である、 光拡散素子。
IPC (2件):
G02B 5/02 ,  B29D 11/00
FI (2件):
G02B5/02 C ,  B29D11/00
Fターム (11件):
2H042BA02 ,  2H042BA04 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  4F213AA21 ,  4F213AH73 ,  4F213WA41 ,  4F213WA58 ,  4F213WA85 ,  4F213WA87 ,  4F213WB02
引用特許:
審査官引用 (9件)
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