可変データリソグラフィ装置用の湿し流体の直接塗布のための方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：中島淳 , 加藤和詳 , 大賀眞司 , 百本宏之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-165423
公開番号（公開出願番号）：特開2013-035284
出願日： 2012年07月26日
公開日（公表日）： 2013年02月21日
要約：

【課題】フォームローラなしで、可変データ・リソグラフィ・システム内の画像部材の画像再形成可能表面に湿し流体を塗布するシステムと、対応する方法とを提供する。【解決手段】コントローラ40の制御下にある超音波変換器38が、湿し流体の微細液滴を射出して分散流体を形成する。送出流体(通常、空気)をさらに含んでいてもよい分散流体を、加圧手段42からの正の内圧を通じてノズル44へ搬送し、最終的にノズル44から搬送する。ノズル44の出力を画像部材12の画像再形成可能表面層の方へ導き、それにより、画像再形成可能表面層全体を覆って湿し流体の連続層46を形成するように薄く広がる液滴の層を堆積させる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

可変データ・リソグラフィ・システム内の画像部材の画像再形成可能表面に湿し流体を塗布する方法であって、湿し流体を液相から蒸気相または分散流体相に変換することと、前記湿し流体を含む蒸気または分散流体の流れを、前記画像再形成可能表面に導くことと、前記湿し流体を含む前記蒸気または分散流体が、前記画像再形成可能表面上で直接に前記液相に戻るように仕向けて、その結果、前記湿し流体を前記画像再形成可能表面上に堆積させて、前記画像再形成可能表面全体を覆って連続した湿し流体層を形成することと、を含む、方法。

IPC (2件)：

B41M 1/06 , B41F 7/24

FI (2件)：

B41M1/06 , B41F7/24

Fターム (10件)：

2C034BB10 , 2C034BB15 , 2C034BB16 , 2C034BB17 , 2H113AA01 , 2H113BA05 , 2H113BB22 , 2H113BB24 , 2H113FA22 , 2H113FA26

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開昭64-027943
特開昭63-165143
親水性の膜を形成しかつパターン化して印刷するための方法及び装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-569400 出願人：オーセプリンティングシステムズゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング

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審査官引用 (10件)

特開平4-270659
特開昭64-027943
特開昭63-165143

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