特許
J-GLOBAL ID：201303046226772616

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

発明者：
ハイネ メレ ムルダー

ハイネ メレ ムルダー について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-238555
公開番号（公開出願番号）：特開2013-098565
出願日： 2012年10月30日
公開日（公表日）： 2013年05月20日
要約：
【課題】例えば、1つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる1つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第1波長範囲内の放射から形成される第1の1つ又は複数の放射ビームのグループと、第1波長範囲と異なる第2波長範囲内の放射から形成される第2の1つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第1のグループの1つ又は複数の放射ビームが第2のグループの1つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第1及び第2のグループの1つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置であって、 複数の放射ビームを基板に投影するよう構成されている投影系を備えており、該複数の放射ビームは、第1波長範囲内の放射から形成される第1の1つ又は複数の放射ビームのグループと、前記第1波長範囲と異なる第2波長範囲内の放射から形成される第2の1つ又は複数の放射ビームのグループと、を備え、 分散素子であって、第1のグループの1つ又は複数の放射ビームが第2のグループの1つ又は複数の放射ビームと異なる角度で前記分散素子に入射し、かつ前記分散素子から出力される第1及び第2のグループの前記1つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備えるリソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G02B 26/10
FI (4件)：
H01L21/30 529 ,  G03F7/20 505 ,  G02B26/10 105Z ,  H01L21/30 525S
Fターム (16件)：
2H045AF01 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097GB04 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F146BA07 ,  5F146CA03 ,  5F146CB02 ,  5F146CB10 ,  5F146CB12 ,  5F146CB34 ,  5F146DA01 ,  5F146DA13 ,  5F146DA41
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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