特許
J-GLOBAL ID：201303046338833960

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸発生剤

発明者：
吉田 昌史

吉田 昌史 について

, 
笠原 一樹

笠原 一樹 について

, 
中原 一雄

中原 一雄 について

, 
堀 雅史

堀 雅史 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (9件)： 天野 一規 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  石田 耕治 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  新庄 孝 ,  川端 和也 ,  柴尾 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-281859
公開番号（公開出願番号）：特開2013-152451
出願日： 2012年12月25日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
要約：
【課題】現像欠陥の発生を抑制できるフォトレジスト組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、[A]酸解離性基を含む構造単位(I)を有する重合体、及び[B]下記式(1)で表される化合物を含む酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物である。式(1)中、R1は、炭素数3〜20の1価の脂環式炭化水素基である。この脂環式炭化水素基の炭素環に脂肪族複素環が縮環していてもよい。Xは**-(X2-R’)n-X1-である。X1は、*-COO-又は-O-である。X2は、-COO-又は-O-である。R’は、炭素数3〜20の2価の脂環式炭化水素基である。この脂環式炭化水素基の炭素環に脂肪族複素環が縮環していてもよい。nは0又は1である。R2は、炭素数が偶数の2価の直鎖状炭化水素基又は炭素数が偶数の2価の直鎖状フッ素化炭化水素基である。R3は、水素原子又はフッ素原子である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
[A]酸解離性基を含む構造単位(I)を有する重合体、及び [B]下記式(1)で表される化合物を含む酸発生剤 を含有するフォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/28
FI (3件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/28
Fターム (38件)：
2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB48 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BC03P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM