特許
J-GLOBAL ID:201303046543466628
ガス分離法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-517129
公開番号(公開出願番号):特表2013-534863
出願日: 2011年05月26日
公開日(公表日): 2013年09月09日
要約:
本発明は、ガス混合体を、それぞれ純度が高められた2つのフラクションに分離するための特別な装置、特にガス分離膜モジュールの連鎖化に関する。
請求項(抜粋):
膜分離工程(1)〜(3)、少なくとも1つのコンプレッサ(4)、及び/又は少なくとも1つの、好ましくは1つ若しくは2つの真空ポンプ(15)を有する、ガス分離装置であって、
原料流分離工程(1)は、少なくとも2種の成分から成る原料流(5)を、第一透過流(6)と、第一濃縮流(7)とに分離し、
濃縮体分離工程(2)は、前記第一濃縮流(7)を、前記原料流(5)に供給される第二透過流(9)と、生成物として取り出される第二濃縮流(8)とに分け、
透過体分離工程(3)は、前記第一透過流(6)を、前記原料流(5)に供給される第三濃縮流(10)と、生成物として取り出される第三透過流(11)とに分ける、
前記ガス分離装置において、
・前記第一透過流(6)は、再圧縮にかけられることなく、
・少なくとも前記原料流分離工程(1)において、しかしながら好ましくは、前記3つの膜分離工程(1)〜(3)すべてにおいて、混合ガス選択性が少なくとも30であるガス分離膜モジュールを使用し、
・前記装置は、前記第二透過流(9)、及び前記第三濃縮流(10)で返送されるガスの体積が合計で、粗製ガス流(17)の体積の60体積%未満であるように構成されており、
・前記原料流分離工程(1)の少なくとも1種の透過ガスの濃度が、前記第二透過流(9)及び前記第三濃縮流(10)の返送後に、前記原料流(5)中で、それぞれ前記粗製ガス流(17)中の濃度と比較して高められる、好ましくは少なくとも2%、特に好ましくは少なくとも3%、特に好ましくは3〜40%高められる、
前記ガス分離装置。
IPC (10件):
B01D 53/22
, B01D 63/02
, B01D 63/08
, B01D 71/64
, B01D 71/56
, B01D 71/68
, B01D 71/16
, B01D 71/52
, B01D 71/70
, B01D 69/00
FI (10件):
B01D53/22
, B01D63/02
, B01D63/08
, B01D71/64
, B01D71/56
, B01D71/68
, B01D71/16
, B01D71/52
, B01D71/70 500
, B01D69/00 500
Fターム (40件):
4D006GA41
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA61
, 4D006JA52Z
, 4D006JA53Z
, 4D006JA57Z
, 4D006JA58Z
, 4D006JA65Z
, 4D006KA14
, 4D006KA16
, 4D006KA52
, 4D006KA53
, 4D006KA54
, 4D006KA55
, 4D006KA57
, 4D006KE04R
, 4D006KE08R
, 4D006KE13R
, 4D006KE14R
, 4D006KE22Q
, 4D006MA01
, 4D006MA03
, 4D006MB04
, 4D006MC03
, 4D006MC05
, 4D006MC18
, 4D006MC46
, 4D006MC54
, 4D006MC58
, 4D006MC62
, 4D006MC65
, 4D006PA01
, 4D006PB18
, 4D006PB20
, 4D006PB64
, 4D006PB66
, 4D006PB68
, 4D006PC80
引用特許:
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