特許

J-GLOBAL ID：201303047363919205

液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、及び画像形成装置

発明者： 真貝 勝 ,  石杜 昌弘 ,  黒田 隆彦 ,  水上 智
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 鈴木 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-049158
公開番号（公開出願番号）：特開2013-184313
出願日： 2012年03月06日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
要約：

【課題】インク吐出特性を良好に保持できるとともに、連続吐出しても安定したインク吐出特性を得る。【解決手段】液滴吐出ヘッド300の作成に際して、基板201にLPCVD積層してシリコン酸化膜、シリコン窒化膜の少なくとも一方を含む振動膜202を形成した後、振動膜202の表面を深さが5nm以上の凸部の周期が150nmを超えるように研磨粒子に少なくとも酸化セリウム粒子を用いてCMP研磨する。その後Pt族金属を含む下部電極膜203を形成した後、PZT等の電気機械変換膜204、Pt等の上部電極膜205を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも、CVD積層した振動層と、該振動層上に形成したPt族金属を含む一対の電極層と、該電極層で挟んで形成した電気機械変換層と、を備える液滴吐出ヘッドの製造方法において、 前記振動層を形成した後、前記電極層の形成前に前記振動層の表面をCMP研磨することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。

IPC (1件)：

B41J 2/16

FI (1件)：

B41J3/04 103H

Fターム (8件)：

2C057AF54 ,  2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057AG55 ,  2C057AP22 ,  2C057AP53 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14