特許
J-GLOBAL ID：201303048246807699

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
落合 光良

落合 光良 について

, 
山下 裕子

山下 裕子 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人深見特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-252171
公開番号（公開出願番号）：特開2013-136559
出願日： 2012年11月16日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：
【課題】レジストパターンのパターン倒れ耐性(PCM)が満足できるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、独立にフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。L1及びL2は、独立に2価の飽和炭化水素基等を表す。L3は、酸素原子、メチレン基又は-CO-CH2-を表す。環W1は、芳香族環を表す。環W2は、脂肪族環等を表す。R1は、ヒドロキシ基又はアルキル基を表す。R2は、アルキル基、アルコキシ基又はアルコキシカルボニル基を表す。sは、0〜2の整数を表す。tは、0〜2の整数を表す。Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (4件)：
C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12
FI (4件)：
C07C309/17 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12
Fターム (22件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ69Y ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN67P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AB48
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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