特許

J-GLOBAL ID：201303048976845200

植物の栽培方法

発明者： 中村 正俊
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-040420
公開番号（公開出願番号）：特開2013-172693
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
要約：

【課題】 温水を用いて、野菜類、穀物類等の植物を土壌栽培する方法において、温度コントロールが比較的に難しい土壌を効率よく均一に加温し、植物の成長を促進する栽培方法を提供する。【解決手段】 温水流通手段を植物の育成区域の下部の土壌の周囲に配置し、土壌の温度を設定範囲内に維持して植物を育成する。温水流通手段は温水循環配管または温水流通溝であり、好ましくは埋設深さが50〜150cmとなるように設置される。また、温水循環配管を用いた場合は、好ましくは互いに間隙が少なくなるように設置される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

温水を用いて植物を土壌栽培する方法であって、温水流通手段を植物の育成区域の下部の土壌の周囲に配置し、土壌の温度を設定範囲内に維持して植物を育成することを特徴とする植物の栽培方法。

IPC (3件)：

A01G 9/20 ,  A01G 9/24 ,  A01G 7/00

FI (3件)：

A01G9/20 A ,  A01G9/24 P ,  A01G7/00 602Z

Fターム (2件)：

2B029KA06 ,  2B029SA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 植物栽培方法及び植物栽培用土壌加温装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-110682   出願人：渡部良治, 株式会社三協エンジニアリング, 有限会社創生
• 実用新案登録第3117880号公報