特許

J-GLOBAL ID：201303048984853557

プラズマ処理装置

発明者： 子林 景
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (5件)： 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔 ,  冨田 雅己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-001204
公開番号（公開出願番号）：特開2013-140918
出願日： 2012年01月06日
公開日（公表日）： 2013年07月18日
要約：

【課題】電極交換に際して容易に電極位置を正確に復元することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】第1および第2電極11、12は、4つの角部に設けられたタブTが、下向きに突出する円柱状のボス(突起)21を備える。一方、載置部材13は、載置面14に形成された円筒状の凹部22を備える。ボス21の外径と凹部22の内径とは、必要な位置決め精度に合わせて決定される。従って、第1および第2電極11、12のタブTが、載置部材13の載置面14に載置されるとき、ボス21が凹部22に嵌入され、その載置位置が決定される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

チャンバーと、チャンバー内に配置されてプラズマ放電を発生させる平板状の第1および第2電極と、第1および第2電極を水平に、かつ、互いに対向して載置する載置部材と、第1および第2電極を載置部材に載置するときに第1および第2電極の水平方向の位置を規定する位置決め機構とを備えるプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/509

FI (4件)：

H01L21/205 ,  H05H1/46 M ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/509

Fターム (23件)：

4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA29 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030JA02 ,  4K030KA14 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB28 ,  5F004BD04 ,  5F004DA17 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AC01 ,  5F045AF03 ,  5F045AF07 ,  5F045DP11 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13 ,  5F045EK07