特許

J-GLOBAL ID：201303049174525681

立体フォトマスク及びその製造方法並びに立体フォトマスクを使用した光プラグの製造方法

発明者： 三上 修 ,  大知 知栄美 ,  松澤 雄介 ,  石澤 信彦
出願人/特許権者： 学校法人東海大学
代理人 (1件)： 齊藤 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-034987
公開番号（公開出願番号）：特開2013-171173
出願日： 2012年02月21日
公開日（公表日）： 2013年09月02日
要約：

【課題】 プラグイン接続が容易に行えるようにガイドピンと光ピンとの長さに差を付けた立体フォトマスク及びその製造方法並びに立体フォトマスクを使用した光プラグの製造方法を提供する。【解決手段】 立体フォトマスク1は、光の照射側とは反対側の面に複数の光透過部10a,10bのうちの所定の光透過部10aを覆うようにして光が通過する方向に所定の厚みを有する光透過可能な凸状部11を設けて形成され、立体フォトマスクの製造方法は、複数の光透過部10a,10bが形成されたベースとなるフォトマスク10の光透過部10a,10bの一部又は全部を覆うようにして光硬化性樹脂15を配置する工程と、凸状部11を形成するための凸状部形成用光透過部12aを備えた凸状部形成用フォトマスク12をベースとなるフォトマスク10に配置された光硬化性樹脂15の上に配置する工程と、凸状部形成用フォトマスク12の上方側から光を照射することにより凸状部11を形成する工程とを含み構成されてなる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

照射された光を遮光する遮光部に所定のパターンを有して配置された複数の光透過部を通過させた光によって光硬化性樹脂を硬化することにより長さの異なる光ピンを形成するための立体フォトマスクであって、 光の照射側とは反対側の面に複数の前記光透過部のうちの所定の光透過部を覆うようにして前記光が通過する方向に所定の厚みを有する光透過可能な凸状部を設けて形成され、前記凸状部が設けられた光透過部と前記凸状部が設けられていない光透過部との間で長さの異なる光ピンを形成することを可能としたことを特徴とする立体フォトマスク。

IPC (1件)：

G02B 6/42

FI (1件)：

G02B6/42

Fターム (5件)：

2H137AA12 ,  2H137AB15 ,  2H137BA12 ,  2H137CD33 ,  2H137HA05