特許
J-GLOBAL ID:201303049235723490

二次電池の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 矢野 寿一郎 ,  正津 秀明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-093157
公開番号(公開出願番号):特開2013-222588
出願日: 2012年04月16日
公開日(公表日): 2013年10月28日
要約:
【課題】集電板と負極端子とをレーザー溶接にて接合する際に、溶接部分に十分なエネルギーを与えることにより溶接を完全な状態とし、集電端子と集電体との接合強度を確保して電池の信頼性を向上させることが、低コストで可能となる、二次電池の製造方法を提供する。【解決手段】二次電池の製造方法は、銅又は銅合金からなる負極端子40と、銅又は銅合金からなる集電板45と、をレーザー溶接により接合する接合工程を備え、接合工程は、第一工程と、該第一工程の後に行われる第二工程と、を備え、第一工程は、レーザー光Rにおけるパルス波形の初期出力値が2kW以上であって、平均エネルギー密度が7500J/mm2以上かつ15000J/mm2以下となるように設定され、第二工程は、レーザー光Rにおけるパルス波形の出力値が、初期出力値の1/3から1/2である一定値となるように設定される。【選択図】図2
請求項(抜粋):
銅又は銅合金からなる外部端子と、銅又は銅合金からなる集電板と、をレーザー溶接により接合する接合工程を備える、二次電池の製造方法であって、 前記接合工程は、第一工程と、該第一工程の後に行われる第二工程と、を備え、 前記第一工程は、レーザー光におけるパルス波形の初期出力値が2kW以上であって、平均エネルギー密度が7500J/mm2以上かつ15000J/mm2以下となるように設定され、 前記第二工程は、レーザー光におけるパルス波形の出力値が、前記初期出力値の1/3から1/2である一定値となるように設定される、 ことを特徴とする、二次電池の製造方法。
IPC (2件):
H01M 2/30 ,  H01M 2/26
FI (2件):
H01M2/30 B ,  H01M2/26 A
Fターム (18件):
5H043AA01 ,  5H043AA19 ,  5H043BA11 ,  5H043BA19 ,  5H043CA04 ,  5H043CA12 ,  5H043CA13 ,  5H043DA05 ,  5H043DA20 ,  5H043HA06D ,  5H043HA17D ,  5H043JA02D ,  5H043JA06D ,  5H043JA13D ,  5H043KA08D ,  5H043KA45D ,  5H043LA00D ,  5H043LA35D

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