特許
J-GLOBAL ID：201303049977589077
フォトマスクおよびフォトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-120598
公開番号（公開出願番号）：特開2013-246338
出願日： 2012年05月28日
公開日（公表日）： 2013年12月09日
要約：
【課題】多層コーティング層や回折格子をフォトマスクに形成することなく、変形照明法を用いていない通常の露光装置を使用しても、変形照明法を用いた露光装置と同等の高解像のパターニングが可能となるフォトマスクを提供すること。【解決手段】透明基板のおもて面には露光パターンが形成されており、裏面には前記露光パターンに対して、光源から垂直入射する光線を遮光する遮光性パターンが形成されていることを特徴とするフォトマスク。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板のおもて面には露光パターンが形成されており、裏面には前記露光パターンに対して、光源から垂直入射する光線を遮光する遮光性パターンが形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/00 Z
, H01L21/30 502P
