特許
J-GLOBAL ID：201303049984135332
OPC処理制御方法、OPC処理制御プログラム、及びマスク製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人深見特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-115498
公開番号（公開出願番号）：特開2013-242427
出願日： 2012年05月21日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
【課題】ベントゲートに対するOPC処理を容易に実行可能な技術を提供する。【解決手段】OPC処理を実行するワークステーションを制御するための方法は、ワークステーションが、マスクレイアウトデータに含まれる測長対象レイヤLAの、ベントゲートの斜め線を特定し、特定された斜め線を対角線とする第1の矩形図形データAを生成する。ワークステーションは、測長対象レイヤLAから、第1の矩形図形データAを型抜き処理することで、矩形図形からなる補正対象レイヤLBを生成する。ワークステーションは、補正対象レイヤLBに対し、第2の矩形図形データBを合成処理または型抜き処理することにより、補正後のマスクレイアウトデータを生成する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
マスクレイアウトデータを補正するためのOPC処理を実行する情報処理装置を制御するための方法であって、前記情報処理装置は、プロセッサと、前記マスクレイアウトデータを記憶するためのメモリとを有しており、
前記方法は、
前記プロセッサが、前記マスクレイアウトデータに含まれる、ベントゲートの斜め線を特定し、特定された斜め線を対角線とする第1の矩形図形データを生成するステップと、
前記プロセッサが、前記生成された第1の矩形図形データを、前記ベントゲートを含むパターンデータから型抜き処理することにより、矩形図形からなる補正対象データを得るステップと、
前記プロセッサが、前記第1の矩形図形データと、前記補正対象データとで重なりを有する辺を一辺とする第2の矩形図形データを、前記補正対象データに合成処理をする、または前記補正対象データから型抜き処理をすることにより、補正後のマスクレイアウトデータを生成するステップとを含む、
情報処理装置を制御するための方法。
IPC (3件)：
G03F 1/36
, H01L 21/027
, G03F 7/20
G03F1/36
, H01L21/30 502P
, G03F7/20 521
2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
