特許

J-GLOBAL ID：201303051136604041

液体噴射ヘッドの製造方法

発明者： 樫野 裕義
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-130990
公開番号（公開出願番号）：特開2013-000911
出願日： 2011年06月13日
公開日（公表日）： 2013年01月07日
要約：

【課題】液体の噴射特性のばらつきや低下を抑制して、ノズルプレートの剥離及び液体の漏出を抑制することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】液体が噴射されるノズル開口21を有するノズルプレート20と、前記ノズル開口21に連通する流路が形成された流路形成基板10と、が接着剤25を介して接合された液体噴射ヘッドの製造方法であって、前記ノズル開口21が形成されたシリコン基板の少なくとも前記ノズル開口21の内面にレジストを形成する工程と、前記レジストが形成された前記シリコン基板の前記流路形成基板10に接合される接合面20bをドライエッチングする工程と、ドライエッチングした前記シリコン基板の前記レジストを除去して前記ノズルプレート20を形成する工程と、前記ノズルプレート20の前記接合面20bを前記流路形成基板10に接着剤25を介して接合する工程と、を具備する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

液体が噴射されるノズル開口を有するノズルプレートと、 前記ノズル開口に連通する流路が形成された流路形成基板と、が接着剤を介して接合さ れた液体噴射ヘッドの製造方法であって、 前記ノズル開口が形成されたシリコン基板の少なくとも前記ノズル開口の内面にレジス トを形成する工程と、 前記レジストが形成された前記シリコン基板の前記流路形成基板に接合される接合面を ドライエッチングする工程と、 ドライエッチングした前記シリコン基板の前記レジストを除去して前記ノズルプレート を形成する工程と、 前記ノズルプレートの前記接合面を前記流路形成基板に接着剤を介して接合する工程と 、を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。

IPC (3件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (2件)：

B41J3/04 103H ,  B41J3/04 103A

Fターム (7件)：

2C057AF93 ,  2C057AP13 ,  2C057AP25 ,  2C057AP32 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14