特許
J-GLOBAL ID：201303051508647206

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物

発明者：
酒井 香織

酒井 香織 について

, 
池田 憲彦

池田 憲彦 について

, 
大▲崎▼ 仁視

大▲崎▼ 仁視 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (10件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  池田 義典 ,  小川 博生 ,  加藤 早苗 ,  石田 耕治 ,  森田 慶子 ,  各務 幸樹 ,  根木 義明 ,  新庄 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-055176
公開番号（公開出願番号）：特開2013-190499
出願日： 2012年03月12日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
要約：
【課題】LWR性能及びMEEF性能に優れるレジストパターンを形成可能なフォトレジスト組成物の提供。【解決手段】[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。[A]重合体は、下記式(2)で表される構造単位(II)をさらに有することが好ましい。下記式(2)中、R5、R6及びR7は、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数4〜20の1価の脂環式基である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び [B]酸発生体 を含有するフォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  C08F 24/00 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  C08F24/00 ,  H01L21/30 502R
Fターム (45件)：
2H125AF17P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ75Y ,  2H125AJ83Y ,  2H125AL11 ,  2H125AN11P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AU29R ,  4J100AU29S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC03R ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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