特許
J-GLOBAL ID：201303052122472505
イオン注入装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-070841
公開番号（公開出願番号）：特開2013-206546
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：
【課題】従来のイオン打ち込み装置はシール部材であるシールリングの断裂や、これにともなうOリングの突出等の問題およびそれにともなう製品不良発生の問題がある。【解決手段】一つの実施の形態によるイオン打ち込み装置は、シールリングに導線を内蔵させ、この導線の電流値をモニターして、シールリングの異常を検知するシステムを有するものである。 他の実施の形態によるイオン打ち込み装置は、シールリングに空洞部を有し、該空洞部に加圧して、前記空洞部内の圧力を検知してシールリングの異常を検知するシステムを有するものである。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
半導体ウエハを装着して高速回転する回転円板と、前記回転円板を真空に保ちスライドシール機構を有する真空容器と、前記回転円板の回転軸と垂直方向に前記真空容器をスライドするイオン注入装置であって、前記真空容器は、シールリングとOリングとからなるスライドシール機構を有し、前記シールリングは、その内部に導線を有し、該導線に流れる電流値をモニターするモニター部を有するイオン注入装置。
IPC (5件)：
H01J 37/317
, F16J 15/18
, H01L 21/265
, H01J 37/16
, H01J 37/18
H01J37/317 B
, F16J15/18 B
, H01L21/265 603C
, H01J37/16
, H01J37/18
3J043AA11
, 3J043BA08
, 3J043CA01
, 3J043CB13
, 3J043DA08
, 5C033KK07
, 5C034CC07
, 5C034CC08
, 5C034CC19
, 5C034CD05
