特許
J-GLOBAL ID：201303052236732841
電子ビーム基盤型システム内の収差を補正する装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-239802
公開番号（公開出願番号）：特開2013-098567
出願日： 2012年10月31日
公開日（公表日）： 2013年05月20日
要約：
【課題】電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する。【解決手段】一実施形態は、電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する装置に関する。内部電極は、パターン生成装置を取り囲み、その内部電極の周りには、少なくとも1つの外部電極がある。内部電極及び外部電極の各々は、パターン生成装置の平面内に、平坦な表面を有する。回路は、内部電圧レベルを内部電極に印加し、少なくとも1つの外部電圧レベルを少なくとも1つの外部電極に印加するように構成されている。電圧レベルは、電子ビームリソグラフィーシステム内の像面の反りを補正するように設定され得る。別の実施形態は、電子ビーム検査システム又は再検査システム又は計量システム等の電子ビーム基盤型システム内で利用される収差を補正する装置に関する。他の実施形態、態様及び特徴も開示される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
電子ビームリソグラフィーシステム内の収差を補正する装置であって、
前記装置が、
パターン生成装置を取り囲み、前記パターン生成装置の平面内に平坦な表面を有する、内部電極と、
前記内部電極の周りの、前記パターン生成装置の平面内に平坦な表面を有する、少なくとも1つの外部電極と、
内部電圧レベルを前記内部電極に印加し、少なくとも1つの外部電圧レベルを前記少なくとも1つの外部電極に印加するように構成された回路と
を含む、装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01J 37/305
H01L21/30 541E
, H01J37/305 B
5C034BB08
, 5C034BB10
, 5F056AA40
, 5F056CB29
, 5F056CD01
, 5F056EA08
, 5F056FA03
