特許

J-GLOBAL ID：201303052598467054

プラズマ処理装置、マイクロ波導入装置及びプラズマ処理方法

発明者： 藤野 豊 ,  植田 篤 ,  尾▲崎▼ 成則 ,  北川 淳一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 渡邊 和浩 ,  星宮 勝美 ,  城澤 達哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-181478
公開番号（公開出願番号）：特開2013-045551
出願日： 2011年08月23日
公開日（公表日）： 2013年03月04日
要約：

【課題】処理容器の上部にマイクロ波導入機構を設けることが必須とされず、装置設計における自由度が高いマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】マイクロ波導入装置5は、マイクロ波を生成すると共に、マイクロ波を複数の経路に分配して出力するマイクロ波出力部50と、マイクロ波出力部50から出力されたマイクロ波を処理容器2内へ導入するアンテナユニット60と、アンテナユニット60により導入されたマイクロ波を処理容器2内に放射するマイクロ波放射モジュール80と、を有している。マイクロ波放射モジュール80は、誘電体窓部材としてのマイクロ波透過板81と、導体部材としてのカバー部材82とを有している。カバー部材82は、マイクロ波透過板81を介して処理容器2内に導入されるマイクロ波がウエハWの方向へ向かうようにマイクロ波の方向を規制する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理体を収容する処理容器と、 前記処理容器内で被処理体を載置する載置部と、 前記処理容器内に処理ガスを供給するガス供給機構と、 前記処理容器内で前記処理ガスのプラズマを生成させるためのマイクロ波を発生させると共に、前記処理容器内に前記マイクロ波を導入するマイクロ波導入装置と を備え、 前記マイクロ波導入装置は、 被処理体の周囲に配置され、マイクロ波を透過させて前記処理容器内へ放射する誘電体窓部材と、 前記誘電体窓部材を介して前記処理容器内に放射されるマイクロ波が被処理体の表面と平行な方向で被処理体へ向かうように規制する導体部材と、 を含むマイクロ波放射モジュールを有しているプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/511

FI (4件)：

H05H1/46 B ,  H01L21/302 101D ,  H01L21/205 ,  C23C16/511

Fターム (15件)：

4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA01 ,  4K030GA01 ,  4K030KA12 ,  4K030KA19 ,  4K030KA20 ,  4K030KA30 ,  5F004BB14 ,  5F004BD01 ,  5F045AA09 ,  5F045DP03 ,  5F045EF20 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03