特許
J-GLOBAL ID：201303052756211585
硫化リチウムの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
速水 進治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-101413
公開番号（公開出願番号）：特開2013-227180
出願日： 2012年04月26日
公開日（公表日）： 2013年11月07日
要約：
【課題】本発明は、工業的生産に優れ、かつ、純度が高い硫化リチウムを得ることができる、硫化リチウムの製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の硫化リチウムの製造方法は、硫酸リチウムを還元することによって硫化リチウムを製造する方法である。より具体的には、以下の2つの工程を含んでいる。 (1)硫酸リチウムを含む粉末を、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による重量基準粒度分布における、粒子径d90が50.0μm以下の微粒子に調整する微粒子化工程 (2)得られた硫酸リチウムを含む微粒子を還元することにより、硫化リチウムを得る還元工程【選択図】図1
請求項（抜粋）：
硫酸リチウムを還元することによって硫化リチウムを製造する硫化リチウムの製造方法であって、
前記硫酸リチウムを含む粉末を、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による重量基準粒度分布における、粒子径d90が50.0μm以下の微粒子に調整する微粒子化工程と、
得られた前記硫酸リチウムを含む前記微粒子を還元することにより、前記硫化リチウムを得る還元工程と
を含む、硫化リチウムの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
5H029AJ14
, 5H029AK05
, 5H029AM12
, 5H029CJ02
, 5H029CJ08
, 5H029CJ12
, 5H029CJ14
, 5H029HJ01
, 5H029HJ02
, 5H029HJ05
, 5H029HJ07
, 5H050AA19
, 5H050BA17
, 5H050CA11
, 5H050GA02
, 5H050GA05
, 5H050GA10
, 5H050GA12
, 5H050GA15
, 5H050HA01
, 5H050HA02
, 5H050HA05
, 5H050HA07
