特許
J-GLOBAL ID：201303052841787313
円偏光変換装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
橘 和之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-002301
公開番号（公開出願番号）：特開2013-053850
出願日： 2010年01月07日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
要約：
【課題】小規模な装置で軟X線の直線偏光を円偏光に変換できるようにする。【解決手段】軟X線の波長付近に内殻吸収端を持つ遷移金属から成る反射面12を真空容器14の内側に形成するとともに、軟X線が反射する反射面12の位置において真空容器14の長手方向に対して垂直方向の磁場を発生させる永久磁石13を設け、真空容器14に入射した直線偏光の軟X線を、磁場が与えられた位置の反射面12において複数回反射させることにより、軟X線が反射面12で反射するときに磁気円二色性の共鳴効果により磁気散乱が増強されるようにして、直線偏光を構成している左回り円偏光と右回り円偏光との間で屈折率に大きな差を生じさせ、左回り円偏光と右回り円偏光との位相差を一気に得ることにより、ほんの数回の反射によって軟X線の直線偏光を円偏光に変換できるようにする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
軟X線の進路となる中空の真空容器と、
上記真空容器の内側に形成された反射面であって、上記軟X線の波長付近に内殻吸収端を持つ遷移金属から成る反射面と、
上記反射面で上記軟X線が反射する位置において上記真空容器の長手方向に対して垂直方向の磁場を発生させる磁石と、
上記真空容器内に真空状態を作る真空ポンプとを備え、
上記真空ポンプにより真空状態とされた上記真空容器内に直線偏光の上記軟X線を入射し、上記磁場が与えられた位置の上記反射面において上記軟X線を複数回反射させることにより、円偏光に変換された上記軟X線を上記真空容器から出射するようにしたことを特徴とする円偏光変換装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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