特許
J-GLOBAL ID：201303053306618002

化学研磨装置

発明者：
西山 榮

西山 榮 について


出願人/特許権者：
株式会社NSC

株式会社NSC について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-017445
公開番号（公開出願番号）：特開2013-155086
出願日： 2012年01月31日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：
【課題】治具を使用することなくガラス基板に対して化学研磨処理を施すことが可能な枚葉式の化学研磨装置を提供する。【解決手段】化学研磨装置10は、複数の搬送ローラ50、および複数の噴射パイプ322を備える。複数の搬送ローラ50は、それぞれガラス基板100を下から支持しつつ、ガラス基板100を水平方向に搬送するように構成される。噴射パイプ322は、複数の搬送ローラ50によって搬送されるガラス基板100に対して少なくとも下側から研磨液を噴射するように構成される。また、噴射パイプ322は、少なくとも化学研磨処理空間内におけるすべての搬送ローラ50の周面を研磨液にてウエットな状態にするように研磨液を噴射する。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
連続的に搬送される複数のガラス基板に対して化学研磨処理を行うように構成された化学研磨装置であって、 ガラス基板を下から支持しつつ、ガラス基板を水平方向に搬送するように構成された複数の搬送ローラと、 前記複数の搬送ローラによって搬送されるガラス基板に対して少なくとも下側から研磨液を噴射するように構成された研磨液噴射手段と、を備え、 前記研磨液噴射手段は、少なくとも化学研磨処理空間内におけるすべての搬送ローラの周面を研磨液にてウエットな状態にするように研磨液を噴射することを特徴とする化学研磨装置。
IPC (1件)：
C03C 15/00
FI (1件)：
C03C15/00 C
Fターム (7件)：
4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AB13 ,  4G059AB19 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB16
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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