特許
J-GLOBAL ID:201303053976719403

近接場照明光学系、近接場光学顕微鏡および近接場光形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 杉村 憲司 ,  下地 健一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-031703
公開番号(公開出願番号):特開2013-167569
出願日: 2012年02月16日
公開日(公表日): 2013年08月29日
要約:
【課題】所望の強度分布を有する近接場光を形成することができ、光エネルギーの利用効率が高い近接場照明光学系およびこれを用いた近接場光学顕微鏡並びに近接場光形成方法を提供する。【解決手段】近接場照明光学系101は、照明光を射出する光源102と、光源102から射出された照明光を空間変調する位相変調素子104と、誘電率または透磁率が異方性を示し、近接場光を伝達可能な超高波数伝達媒質106であって、変調素子104により変調された照明光Lが入射されるように配置された超高波数伝達媒質106とを備える。変調素子104は、空間変調された照明光が超高波数伝達媒質106を伝達された後に、所望の強度分布を有する近接場光を形成するように、照明光を変調する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
照明光を射出する光源と、 前記光源から射出された前記照明光を空間変調する変調素子と、 誘電率または透磁率が異方性を示し、近接場光を伝達可能な超高波数伝達媒質であって、前記変調素子により変調された前記照明光が入射されるように配置された超高波数伝達媒質とを備え、 前記変調素子は、空間変調された前記照明光が前記超高波数伝達媒質を伝達された後に、所望の強度分布を有する近接場光を形成するように、前記照明光を変調することを特徴とする近接場照明光学系。
IPC (1件):
G01Q 60/22
FI (1件):
G01Q60/22 101

前のページに戻る