特許
J-GLOBAL ID：201303054075278200
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 正義
, 今枝 弘充
, 梅村 裕明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-121793
公開番号（公開出願番号）：特開2012-209559
特許番号：特許第5165131号
出願日： 2012年05月29日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ハウジングと、
前記ハウジング内に基板を保持する保持手段と、
前記基板のレジスト又は窒化膜が形成されている処理面に対して処理液を供給する供給手段と、
前記ハウジング内に気体を取り込む取り込み口と、
前記ハウジング内の処理液の蒸気を当該ハウジングから排出する排出口と
を備え、
前記保持手段は前記処理面を前記ハウジングの底部に向けて前記基板を保持し、
前記処理面に対して前記処理液を供給して前記処理面に形成されたレジスト又は窒化膜を除去し、
前記取り込み口から前記排出口へ向かう気流を形成し、前記気流によって処理液の蒸気を当該ハウジングから排出する
ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, H01L 21/306 ( 200 6.01)
, G02F 1/13 ( 200 6.01)
H01L 21/30 572 B
, H01L 21/304 648 L
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/306 R
, G02F 1/13 101
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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