特許
J-GLOBAL ID：201303055574129564
C4-カットを処理するための方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
, 篠 良一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-582258
特許番号：特許第5038573号
出願日： 2001年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 方法工程
- 抽出蒸留(I)、
- 不均一系触媒を用いた選択的水素化(II)、その際、方法工程(I)および(II)の後に粗製1,3-ブタジエン流が得られる、および
- 純粋1,3-ブタジエンを得るための粗製1,3-ブタジエン流の蒸留(III)
を有するC4-カットの処理法において、方法工程IおよびIIを単一の塔で実施し、かつ方法工程IIIを第二の塔で実施することを特徴とする、C4-カットの処理法。
IPC (7件)：
C07C 7/08 ( 200 6.01)
, C07C 5/09 ( 200 6.01)
, C07C 11/167 ( 200 6.01)
, C07C 7/167 ( 200 6.01)
, B01D 3/14 ( 200 6.01)
, B01D 3/40 ( 200 6.01)
, C10G 7/08 ( 200 6.01)
C07C 7/08
, C07C 5/09
, C07C 11/167
, C07C 7/167
, B01D 3/14
, B01D 3/40
, C10G 7/08
出願人引用 (2件)
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特開昭56-150024
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特開昭59-206002
審査官引用 (2件)
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特開昭56-150024
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特開昭59-206002
引用文献：
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